封测光刻机是什么(光刻机原理详细介绍)
时间:2023-10-26 22:36:49来源:封测光刻机是什么?
封测光刻机跟平常我们常提的光刻机不一样,属于后道光刻机。
后道光刻的精度要求远低于前道光刻的要求,因此封测光刻机制造相对容易,我国上海微电子在封测光刻机方面非常领先。
目前,上海微电子封测光刻机在国内市场的份额达到80%左右,全球市场也占40%。
光刻机除了按光源的先进程度分为EUV、DUV、UV外,按用途还可以分为芯片制造用的前道光刻机和封测用的后道光刻机。
光刻机原理详细介绍?
光刻机是一种将光线通过掩模板照射在光敏材料上的设备,用于制造微电子器件。
其原理是利用紫外光通过掩模板形成的图案,将光敏材料上的化学反应进行控制,从而形成所需的微细结构。
光刻机的核心部件是光源、掩模板、光学系统和光敏材料。
光源产生紫外光,光学系统将光线聚焦到掩模板上,掩模板上的图案通过透过或反射的方式传递到光敏材料上,形成所需的微细结构。
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